|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 48775 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 52793 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
| 60672 |
|
17 |
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다.
[1]  | 279 |
|
16 |
Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다.
[2] | 952 |
|
15 |
dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요?
[1] | 957 |
|
14 |
CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
[1] | 1262 |
|
13 |
Si Wafer Broken
[2] | 1302 |
|
12 |
ESC Cooling gas 관련
[1] | 1757 |
|
11 |
ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다.
| 3147 |
|
10 |
ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다.
[1] | 3172 |
|
9 |
ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
| 3218 |
|
8 |
Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다.
| 3441 |
|
7 |
플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의..
[1] | 5956 |
|
6 |
정전척 isolation 문의 입니다.
[1] | 6323 |
|
5 |
[질문] 석영 parts로인한 특성 이상
[1] | 19453 |
|
4 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21429 |
|
3 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22500 |
|
2 |
esc란?
| 24261 |
|
1 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 24301 |
