ESC ESC Cooling gas 관련
2019.02.21 19:22
Etch공정에서 ESC Cooling gas로 He을 주로 사용하는데 열전도도가 좋고 불활성가스라는 이유로 많이 사용되는것으로 알고있습니다
비교적 원가가 저렴한 N2가스를 사용하는 경우도 있을까요? 열전도도 반응성이 N2또한 괜찮은것으로 알고있는데 혹시 문제가 있을까요?
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 48587 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 49804 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] | 55067 |
| 14 | dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] | 703 |
| 13 | Si Wafer Broken [2] | 1141 |
| 12 | CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] | 1176 |
| » | ESC Cooling gas 관련 [1] | 1488 |
| 10 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 2145 |
| 9 |
ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다.
 | 2523 |
| 8 | ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 | 2617 |
| 7 | 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] | 5901 |
| 6 | 정전척 isolation 문의 입니다. [1] | 6236 |
| 5 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19425 |
| 4 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 21327 |
| 3 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22468 |
| 2 | esc란? | 23864 |
| 1 | dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] | 24126 |
질소 화합물이 만들어 질 수가 있으니, 삼가하시는 것이 좋을 것 같고, 최근 추세는 ESC 온도를 정밀하게 제어하는 방법에 대해서 관심들이 많이 있어 보이니 참고하시기 바랍니다.