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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59719
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138 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 56
137 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 179
136 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 198
135 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 201
134 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 202
133 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 237
132 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 279
131 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 286
130 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 295
129 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 301
128 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 307
127 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 307
126 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 362
125 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 381
124 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 393
123 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 397
122 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 409
121 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 427
120 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 466
119 ICP 후 변색 질문 496

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