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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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194 |
플라즈마 식각 커스핑 식각량
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193 |
화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마]
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192 |
ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각]
[1] | 530 |
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191 |
RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다.
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190 |
Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막]
[1] | 570 |
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189 |
AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석]
[1] | 573 |
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188 |
Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포]
[1] | 584 |
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187 |
Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해]
[1] | 613 |
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186 |
FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석
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185 |
가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해]
[1] | 646 |
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184 |
타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산]
[1] | 654 |
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183 |
Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length]
[1] | 676 |
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182 |
HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant]
[1] | 684 |
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181 |
center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2
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gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제]
[1] | 714 |
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텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning]
[1] | 718 |
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178 |
RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise]
[1] | 730 |
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Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화]
[1] | 732 |
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공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해]
[1] | 749 |
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RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability]
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