안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76654
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20148
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57149
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68669
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92130
182 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 52
181 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 59
180 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 100
179 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 163
178 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 164
177 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 184
176 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 196
175 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 196
174 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 212
173 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 219
172 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 224
171 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 244
170 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 272
169 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 289
168 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 313
167 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 353
166 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 362
165 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 384
164 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 392
163 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 395

Boards


XE Login