안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [337] 111513
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 27842
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 65114
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76937
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 111199
154 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 1083
153 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 1094
152 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 1107
151 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 1121
150 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 1154
149 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 1163
148 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 1185
147 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 1227
146 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 1244
145 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 1270
144 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 1298
143 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1302
142 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1317
141 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1354
140 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1359
139 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1400
138 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1465
137 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1474
136 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 1474
135 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1520

Boards


XE Login