kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수

2009.11.17 16:06

김곤호 조회 수:72806 추천:217



안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 100362
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24196
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60829
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72806
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 104421
154 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 909
153 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 914
152 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 919
151 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 964
150 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 979
149 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 984
148 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 988
147 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 1018
146 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 1021
145 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 1029
144 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 1052
143 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1099
142 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 1109
141 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 1137
140 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1194
139 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1217
138 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1286
137 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1292
136 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1326
135 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1334
쓰기
태그

Boards

XE Login