안녕하십니까 현재, 증착관련 기업에서 인턴을 하고있는 김윤재 학생입니다.

Depostion에 관심이 많아서, 교수님의 질문방을 보며 공부(?)를 간혹하는 학생입니다.

 

현재, SiO2박막을 증착하며, 엘립소미터를 이용하여 굴절률과 증착두께를 측정하고 있습니다

그런데, Data를 측정하면  굴절률이 1.30/1.35/1.40/1.45 이런식으로 다양하게 나옵니다. 당연히, 증착두께도 굴절률에 따라 다르게 나옵니다.

SiO2의 굴절률이 1.46으로 알고있는데 굴절률이 다양하게 측정이 된다면, 여러 요인에 의해서 SiO2박막이 제대로 증착이 안된거 같습니다.

 

그런데, 이런 경우라면  Data를 기록할때 어떻게 기록해야하는 궁금합니다.

각 굴절률과  그에 따른 박막두께를 다 기록해야하는지.... 혹은 굴절률과 측정두께의 평균을 구해야 하는지 궁금합니다.... 

유의미한 data를 측정하고 싶은데 지식이 없는 학부생 질문이라 죄송합니다....

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82172
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21881
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58669
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70291
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96039
153 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 778
152 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 779
151 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 785
150 ICP 후 변색 질문 798
149 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 799
148 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 802
147 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 823
146 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 843
145 Plasma 표면 개질에 대해 질문드립니다. [O2 플라즈마와 Ar 플라즈마] [1] 847
144 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 853
143 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 861
142 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 866
141 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 884
140 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 952
139 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1022
138 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1033
137 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1057
136 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1063
135 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1183
134 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1202

Boards


XE Login