안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78039
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20848
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93635
112 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1707
111 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1749
110 터보펌프 에러관련 [1] 1815
109 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1842
108 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1898
107 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1960
106 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 2057
105 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 2082
104 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 2087
103 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 2091
102 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2113
101 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2275
100 etching에 관한 질문입니다. [1] 2353
99 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2376
98 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 2378
97 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2404
96 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2406
95 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2407
94 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2446
93 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2452

Boards


XE Login