번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48578
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 49789
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 55049
38 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 29
37 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 47
36 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 145
35 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 163
34 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 232
33 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 270
32 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 323
31 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 401
30 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 449
29 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 487
28 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 534
27 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 570
26 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 659
25 etching에 관한 질문입니다. [1] 695
24 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 740
23 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 885
22 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 971
21 Plasma etcher particle 원인 [1] 1065
20 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1109
19 터보펌프 에러관련 [1] 1123

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