kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수

2009.11.17 16:06

김곤호 조회 수:76974 추천:217



안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [337] 111567
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 27869
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 65152
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76974
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 111235
76 플라즈마 식각 커스핑 식각량 316
75 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 494
74 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 552
73 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 599
72 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 628
71 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 688
70 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 695
69 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise] [1] 698
68 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 706
67 RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability] [1] 723
66 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델] [1] 740
65 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 743
64 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing] [1] 748
63 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 773
62 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 852
61 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 870
60 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 934
59 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 944
58 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 1082
57 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 1121
쓰기
태그

Boards

XE Login