Etch RIE Gas 질문 하나 드려도될까요?

2023.08.30 08:55

윤성 조회 수:326

RIE(13.56Mhz) 설비 SET UP 도중 압력 0.2 Torr Gas SF6 30 Sccm 공정 조건에서 Matcher가 Matching position 을 잡지 못하고 흔들리는 현상으로 Matcher circuit에 Low pass filter 장착 후 그 현상이 사라 졌습니다.

위에 현상에 대한 정보가 부족 하지만 답변 주셔서 감사합니다.

 

특이사항이 CF4, Ar Gas 에서는 위에 현상이 나타나지않으며 SF6 가스에만 위에 현상이 나타나는건 Gas의 특성이라고 보면될까요? 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76888
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20284
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57204
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92712
69 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 12
68 플라즈마 식각 커스핑 식각량 35
67 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 73
66 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 211
65 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 255
64 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 262
63 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 284
62 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 300
» RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 326
60 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 363
59 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 373
58 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 399
57 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 415
56 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 492
55 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 558
54 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 612
53 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 626
52 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 631
51 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 675
50 Polymer Temp Etch [1] 678

Boards


XE Login