Deposition 플라즈마 코팅에 관하여

2004.06.25 16:45

관리자 조회 수:22096 추천:303

질문 ::

저는 직장에 다니는 회사원입니다. 얼마전 선배로 부터 플라즈마 코팅이라는 것을 문의 받았는데, 정확한 답변을 할 수가 없었습니다. 플라즈마 코팅의 원리와 국내 전문가를 소개시켜 주실 수 있는지요?

답변 ::

플라즈마를 이용한 코팅을 한마디로 설명하기는 어렵지만 간단히 생각해 보면 화학물이 시편 표면을 덮는데 플라즈마 환경을 이용한다고 생각할 수 있습니다. 플라즈마는 화학물의 활성에너지를 제공하거나 화학물이 시편 표면과 잘 반응하도록 합니다. 특히 플라즈마 내의 전자에 의해서 기체 상태의 화학물들은 해리되어 래디컬을 형성하여 시편 표면과 활발하게 반응하여 표면에 정착하게 됩니다. 이들 화학물은 시편 표면에 작은 섬을 만들고 그 섬 주변으로 점차 커지는데 이런 섬들이 많아지면 옆의 섬과 연결되면서 시편 전체를 덮게 됩니다. 따라서 시편과 코팅 목적에 알맞는 화학물을 선택하는 것이 매우 중요하며 플라즈마를 이용하고자 한다면 화학물을 기체상태 속에 넣을 수 있어야 합니다. 이렇게 플라즈마의 도움을 받아 표면에 화학물을 코팅하는 기술을 PECVD 혹은 PACVD라고 합니다. 이에 관한 연구는 대단히 활발함으로 주변의 대학 재료공학과에서 전문가를 쉽게 찾으실 수 있을 것 입니다. 혹은 본 란에 답글을 자주 올려주시는 군산대학의 주정훈 교수님이나 울산대학의 천희곤교수님을 찾아 원하시는 코팅에 대한 자문을 받아 보시는 편이 좋을 것 같습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
36 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 186
35 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 235
34 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 406
33 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 473
32 PECVD Uniformity [1] 543
31 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 723
30 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 744
29 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1119
28 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1304
27 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1440
26 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1522
25 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1673
24 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1750
23 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1882
22 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1897
21 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2337
20 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2914
19 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3339
18 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4167
17 플라즈마 색 관찰 [1] 4298

Boards


XE Login