안녕하십니까, 교수님. 전자과 3학년 학부생입니다.

최근 공정에 사용되는 실제 플라즈마 설비 구조가 궁금하여 조금 조사해보았는데, 질문 드리고 싶은 부분이 몇가지 있습니다.

1. CCP의 경우, gas injection의 효율상 전극 하부에 최대한 가깝게 Shower head를 설치해야할 것이라고 생각합니다. 혹은 용어만 다를 뿐 실제로는 Powerd Electode=Shower head일까요?

2. ICP에서 상부에 안테나와 플라즈마를 격리하는 Quartz window는 Skin depth를 최대한 늘리기 위한 물질을 선택한 것인가요?

3.Planar ICP의 경우에는 Quatz window 하부에 Shower head 장착이 가능한지, 

Cylindrical 구조의 ICP의 경우 상부에 Shower head를 장착하고, 챔버 측면이 Quartz로 덮여있는지 궁금합니다.