안녕하세요.

 

플라즈마 클리닝 설비를 다루고 있는 엔지니어입니다.

설비 평가중 궁금한점이 있어서 문의하고자 글을 쓰게 되었습니다.

 

현재 저희 설비는 CCP 구조의 다이렉트 쳄버로 RF Generator와 Matcher를 사용하는 

플라즈마 세정 설비입니다.

 

금번 평가시 사용하였던 자재는 Cu Layer가 노출되어있는 PCB 자재이고 챔버내 Rail이 3개로

Full Loading시 3개가 로딩되는 형식입니다. 그리고 가스는 Ar 10sccm에 파워 425W, 시간 100sec를 쓰고 있습니다.

 

여기서 문제가 되고 있는 점이, 자재 3개 (Full Loading) 로딩시에는 문제가 없는데

1ea개만 로딩하였을때 Rail 위치 상관없이 Cu Layer에서 Discolor (Cu층이 어둡게 변함)가 나오고 있습니다.

저희 판단으로 Cu가 산화 반응을 일으킨 것으로 보고 있습니다.

 

이렇게 자재 로딩 수에 따라 Discolor가 나오기도 하고 안나오기도 하는점이 이해가 안되고

플라즈마 이론적으로 어떻게 해석해야 하는지 몰라 문의드리고 싶습니다.

 

저희가 생각하기에는

첫번째, 같은 쳄버내 체적, 같은 가스량으로, 플라즈마 이온들이 아무래도 3개의 자재의 

분산되다 보니 자재당 플라즈마 효과는 떨어지고 그래서 Discolor도 적어진다고 생각하고,

 

두번째, Full Loading시 1개 로딩보다 상대적으로 전자 축적이 분산되어 약한 음전위(Self Bias)가 걸리게 되어

플라즈마 효과가 감소되고 Discolor도 감소하게 되지 않나 생각하고 있습니다.

 

플라즈마 전문가분들께 꼭 답변을 들어 원인을 알아내 해결을 하고 싶습니다.

부디, 플라즈마에 대한 넓은 식견과 해안으로 도와주시면 감사하겠습니다.

 

※ 저희 설비 CCP구조 도식 및 실제 쳄버사진도 참고용으로 첨부하였습니다. (사진내 자재는 금번 질문과는 상관이 없습니다.)

 

플라즈마 쳄버.png

 

CCP 쳄버구조.png

답변부탁드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [129] 5616
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16915
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51352
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64226
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84314
34 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 364
» 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 467
32 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 510
31 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 572
30 ICP 후 변색 질문 588
29 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 768
28 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 880
27 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2443
26 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2690
25 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 2899
24 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5663
23 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 5853
22 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6494
21 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7572
20 고온 플라즈마 관련 8028
19 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9157
18 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 9178
17 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 14663
16 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 14912
15 nodule의 형성원인 16570

Boards


XE Login