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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71050
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23 analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리] [1] 934
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19 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 2531
18 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다.. 도와주십시오 ㅠㅠ [플라즈마의 진공과 가스 주입] [1] 10206
17 반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하] 12864
16 Electrode의 역할에 대해서 궁금합니다. [이차전자의 방출과 스퍼터링] 17447
15 Faraday shielding & Screening effect [Fluctuation과 grid bias] 18432
14 최적의 펌프는? [Turbo Pump와 corrosion free] 18601
13 MFC [Direct liquid injection] 19383
12 CCP/ICP에서 자석의 역할에 대하여 [ICP와 자기장의 역할] 19422
11 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 20279
10 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어] [1] file 20526
9 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21291
8 Peak RF Voltage의 의미 22757
7 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24865
6 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 24899
5 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25664

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