Others RPC CLEAN 시 THD 발생

2018.10.25 14:48

안녕하세요 반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.

현재 저희 설비에 2개의 CHAMBER가 달려 있습니다. RPC CLEAN을 사용하는 장비인데

두 CH가 동시에 CLEAN이 동작하게되면 공급단 POWER 관련하여 지속적인 ERROR 가 발생을 합니다.(따로 진행시 문제 없음)

고조파 측정시 2개의 CH가 동시에 CLEAN 진행시 높아지는 현상을 발견 하였으나, 그 원인을 찾기 힘들어 질문 드립니다.

POWER CABLING이 의심 되는 상황이나, CABLE 길이 및 위치, 혹은 말림 정도가 영향이 있는지 문의 드리고, 혹시 이 외에 다른 원인을 추측할만한 내용이 있을지 질문 드립니다.

현재 CABLE 연결 상태 및 POWER SUPPLY(설비단) 교체 등 다른 방법을 진행 해 보았으나, 현상이 동일하게 발생하여 설비단 보다는 공급단쪽 POWER를 의심하고 있는 상태 입니다.

혹시 이 글과 관련된 경험이 있으신분은 답변 부탁 드리겠습니다.

감사합니다.

번호	제목	조회 수
공지	[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271]	76791
공지	Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법	20229
공지	개인정보 노출 주의 부탁드립니다.	57178
공지	kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수	68723
공지	질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3]	92437
671	프리쉬스에 관한 질문입니다. [1]	596
670	연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1]	596
669	플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1]	606
668	RF Sputtering Target Issue [2]	606
667	OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1]	609
666	N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1]	609
665	기판표면 번개모양 불량발생 [1]	611
664	진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1]	614
663	플라즈마 기본 사양 문의 [1]	615
662	plasma 공정 중 색변화 [1]	618
661	챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1]	619
660	ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1]	620
659	주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1]	628
658	Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1]	636
»	RPC CLEAN 시 THD 발생 [1]	636
656	플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1]	651
655	analog tuner관련해서 질문드립니다. [1]	657
654	Polymer Temp Etch [1]	667
653	[재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1]	670
652	RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1]	673

첫 페이지 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 끝 페이지

쓰기

댓글 1