안녕하십니까 교수님. 반도체 장비회사에서 공정개발 직무를 담당하고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 플라즈마 식각기술 책을 읽는 와중에 궁금한 점이 생겨 이렇게 질문을 남깁니다.

 

책에서 접지된 전극에 기판을 놓을 경우 Radical에 의한 반응이 반응성 이온의 영향보다 크게 되고,

고주파 전극에 기판을 놓게 되면 반대로 되어 이방성이 커진다고 하는데 

 

집지된 전극에 기판을 놓을 경우 왜 Radical 반응이 주가 되는 건가요?

접지라는 것이 이 구조에서 어떻게 영향을 끼치는 것인지 궁금합니다.

 

항상 많이 배우고 있습니다.

감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5829
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17286
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53124
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64503
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85114
24 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 62
23 plasma striation 관련 문의 [1] file 221
22 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 388
21 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 459
20 라디컬의 재결합 방지 [1] 489
19 anode sheath 질문드립니다. [1] 557
18 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 563
» CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 569
16 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 735
15 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 811
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 982
13 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 1260
12 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1278
11 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1302
10 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2679
9 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7368
8 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16227
7 CCP 의 electrode 재질 혼동 16246
6 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 16653
5 capacitively/inductively coupled plasma 17552

Boards


XE Login