안녕하세요. 직장에서 Etcher를 다루고 있습니다.


저희 장비 중 Microwave Plasma를 사용하고, 여기에서 Impedance를 Matching하는 Matcher가 있습니다.


이 Matcher는 아래 도파관이 있고, 그 위에 3개의 Stub가 있는데, 정확하게 Matching을 진행하는 원리가 궁금합니다.


다른 ICP하고는 달리 Matcher가 회로로 되어 있는 것이 아니니 머리속으로 물리적인 현상을 떠오르는데 어려움이 있네요.


원리가 표현된 관련 문헌이나 자료가 있으면 더욱 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5606
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16887
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51348
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64212
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84189
89 고진공 만드는방법. [1] 810
88 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 834
87 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 847
86 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 892
85 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 940
84 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1002
83 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1024
82 RF matcher와 particle 관계 [2] 1132
81 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 1160
80 MATCHER 발열 문제 [3] 1170
79 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1187
78 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1198
77 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1215
76 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1293
75 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1590
74 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 1590
» 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1645
72 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1654
71 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 1714
70 chamber impedance [1] 1720

Boards


XE Login