ICP chamber 방식이며 Generator는 13.56MHz, 1.5kw두개를 사용할경우

matcher제작 or 분석을 하려는데 국내, 일본 회사에서는 불가능 할것 같다고 합니다.

미국의 AE, MKS를 제외하고 RF matcher나 Generator 방면에서 기술력을 갖고 있는

회사가 있을까요?

혹시 알고 계신곳이 있으면 가르쳐 주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76866
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20272
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57198
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68750
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92692
143 ICP 후 변색 질문 732
142 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 732
141 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 744
140 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 760
139 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 793
138 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 853
137 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 873
136 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 893
135 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 896
134 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 991
133 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1049
132 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1066
131 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1078
130 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1092
129 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1095
128 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1119
127 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1128
126 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1132
125 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1143
124 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1172

Boards


XE Login