Chamber component chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의

2023.07.08 03:24

매쳐 조회 수:360

안녕하세요, 플라즈마 설비를 담당하는 엔지니어입니다.

입사한지 오래되지않아 플라즈마 관련 공부에 정말 많은 도움이 되었습니다 감사합니다.

 

제 질문은 실제 챔버에 인가 되는 W값이 궁금한 것인데요, 다음과 같은 현상을 보던 중 생긴 의문입니다.

MATCHER에 대해 공부를 끝 마친 뒤, 실제 PECVD CHAMBER에 인가되는 POWER의 파형이 궁금하여 확인 해봤는데,

특정 상수값에서(ex: 1000W) 아주 미세하게 진동하는 Trend 였습니다. 

 

이를 받아 들이기 힘든 이유는 
 

1. 제가 기대했던 파형과 달랐습니다. 매칭을 끝 마쳤으므로 V와 I는 위상이 MATCHING 되어, 이 둘의 곱인 파형을 기대 했습니다.
matcher를 거친 Voltage signal은 sin wave 일 것이고, Current Signal 역시 마찬가지이니까요. 이 둘의 곱인 Power 역시 Wave 일텐데 그러지 않았습니다.

  

2. 만일 제가 모르는 DC POWER가 있다 할지라도, DC+AC SIGNAL을 인가 하는 것 이므로, 전기장의 방향은 항상 일정핱것이고 플라즈마가 유지되지 않을테니까요

 

3. RF 설비에서 플라즈마를 생성할 때, HF power의 Watt 값을 set 할 수 있는 것으로 알고 있는데, 이 값 역시 상수로 알고 있습니다.

    이는 진폭을 의미하는 것 일까요?

 

AC POWER SUPPLY에 대한 이해가 부족한 것 같은데... 측정한 값 역시 이해하는데 어려움이 있어 질문 드립니다, 귀한 시간 내주셔서 진심으로 감사드립니다.

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