Matcher CURRENT PATH로 인한 아킹
2023.08.22 11:19
안녕하세요.교수님
이번에 설비사에서 Matcher Plate에 Matcher를 장착할 때 Plate와 Matcher 바닥면 사이 약간의 유격이 있는 상태에서 볼트로 체결하고 RF Power 13.56MHz 2kW 인가 해서 Output 커넥터(20PI 소캣타입)에 아킹이 발생 하였습니다. (크리피지 길이는 충분합니다.)
볼트로 체결하면서 Plate와 Matcher 사이는 완전이 붙었다곤 하지만 제생각엔 완전 면접촉 상태가 아니고 점접촉 상태에서 CURRENT PATH 때문에 아킹이 발생 한 것 같은데 이 원리를 이론적으로 잘 모르겠더라구요..
답변 부탁드립니다
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [274] | 76811 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20241 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57186 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68736 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92569 |
797 | Untitled | 1 |
796 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 | 2 |
795 | Untitled | 2 |
794 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 2 |
793 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 4 |
792 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 7 |
791 | 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] | 34 |
790 | 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] | 46 |
789 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 51 |
788 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 60 |
787 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 67 |
786 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 68 |
785 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 72 |
784 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 76 |
783 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 86 |
782 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 102 |
781 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 105 |
780 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 110 |
779 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 128 |
778 | Microwave & RF Plasma [1] | 129 |
저도 비슷한 생각입니다. RF 접지는 면접촉이 좋을 것 같네요. 접지를 개선해 보시면 좋을 것 같습니다.