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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63008
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82184
489 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 889
488 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 901
487 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 903
486 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 904
485 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 913
484 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 916
483 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 919
482 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 932
481 플라즈마 코팅 [1] 937
480 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 940
479 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 942
478 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 955
477 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 956
476 CVD 공정에서의 self bias [1] 958
475 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 964
474 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 968
473 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 972
472 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 978
471 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 979
470 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 984
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