공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[102]
| 3674 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 15355 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 50581 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 63008 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[2]
| 82184 |
489 |
[Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련]
[3] | 889 |
488 |
플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요.
[1] | 901 |
487 |
PECVD 증착에서 etching 관계
[1] | 903 |
486 |
EEDF, IEDF, Cross section관련 질문
[1] | 904 |
485 |
챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화
[1] | 913 |
484 |
안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다.
[1] | 916 |
483 |
[RIE] reactive, non-reactive ion의 역할
[1] | 919 |
482 |
CCP 챔버 접지 질문드립니다.
[1] | 932 |
481 |
플라즈마 코팅
[1] | 937 |
480 |
[CVD] 막 증착 관련 질문입니다.
[4] | 940 |
479 |
쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다.
[1] | 942 |
478 |
micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다.
[1] | 955 |
477 |
RIE에서 O2역할이 궁금합니다
[4] | 956 |
476 |
CVD 공정에서의 self bias
[1] | 958 |
475 |
CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계
[1] | 964 |
474 |
ICP reflecot power 관련 질문드립니다.
[1] | 968 |
473 |
플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다.
[2] | 972 |
472 |
Pecvd 장비 공정 질문
[1] | 978 |
471 |
CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문
[1] | 979 |
470 |
CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다.
[3] | 984 |