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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63745
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477 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1002
476 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1015
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472 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1029
471 CVD 공정에서의 self bias [1] 1043
470 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1049
469 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1052
468 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1079
467 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1083
466 플라즈마 기초입니다 [1] 1084
465 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 1094
464 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 1106
463 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1107
462 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1122
461 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 1131
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459 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 1147

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