안녕하세요, 교수님.

CCP Plasma 를 이용해 SiH4 와 N2O gas 를 flow 시키면서 SiO2 막질을 형성하는 공정 진행중, Chamber wall 부분에서 특이점이 발생하여 문의드립니다.

Chamber 내부에 형성된 plasma 보다 밝기는 더 밝은 모양의 Parastic plasma 가 chamber wall 부분을 따라 계속해서 왔다 갔다 움직이는 현상입니다.

RF power 가 지나가는 path 의 component 연결상태를 다시 확인 후 다시 plasma 를 켰을때, parastic plasma 의 위치만 변했을 뿐, 현상은 동일합니다.

이와 같은 현상이 발생하는 원인이 무엇일까요? Chamber 내부 conditioning 이 덜 되어서 일지, 아님 실제로 RF power loss 가 Capacitively Coupled 된 두 기판 사이의 어디선가 발생하여 기인된  것일까요?

답변 부탁드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5854
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17320
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53140
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64536
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85144
478 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1206
477 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 1211
476 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1212
475 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1219
474 charge effect에 대해 [2] 1224
473 MATCHER 발열 문제 [3] 1225
472 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1237
471 Ar plasma power/time [1] 1240
470 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1242
469 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1244
» PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1245
467 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1246
466 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1246
465 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1262
464 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1267
463 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1269
462 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1273
461 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1274
460 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 1276
459 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1278

Boards


XE Login