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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
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Remote Plasma 가 가능한 이온
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ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화
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식각 시 나타나는 micro-trench 문제
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N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다.
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427 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련
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ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다.
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질문있습니다.
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RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다.
[1] | 1494 |
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플라즈마 관련 기초지식
[1] | 1501 |
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터보펌프 에러관련
[1] | 1502 |
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DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 1512 |
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RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다.
[1] | 1527 |
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
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플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!?
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etching에 관한 질문입니다.
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Ta deposition시 DC Source Sputtreing
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CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
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잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다.
[1] | 1598 |
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임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[4] | 1598 |
