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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73480
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573 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1432
572 대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계] [2] 1435
571 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1436
570 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1441
569 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1441
568 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] 1444
567 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD] [1] 1444
566 RF 반사파와 이물과의 관계 [Physical/chemical cleaning] [1] 1456
565 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1459
564 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1461
563 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance] [2] 1461
562 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating] [1] 1466
561 공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식] [1] 1468
560 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI] [2] 1470
559 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어] [1] 1484
558 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [Chamber impedance와 공정 드리프트 진단 인자] [1] 1498
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556 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속] [1] 1526
555 ICP VIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [Plasma breakdown 및 생성] [1] file 1527
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