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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69215
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796 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 128
795 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 129
794 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 134
793 플라즈마 설비에 대한 질문 138
792 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 142
791 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 148
790 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 156
789 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 160
788 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스] [1] 163
787 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 165
786 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 166
785 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 166
784 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 169
783 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 171
782 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 173
781 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 181
780 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 181
779 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 182
778 corona model에 대한 질문입니다. [1] 186
777 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 188

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