공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[332]
| 102738 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 24677 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 61391 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 73462 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 105796 |
733 |
ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산]
[1] | 701 |
732 |
스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [플라즈마 이온주입 연구실]
[1] | 715 |
731 |
코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [광운대 최은하 교수님]
[1] | 718 |
730 |
Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다.
| 720 |
729 |
Interlock 화면.mag overtemp의 의미
| 721 |
728 |
메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마]
[1] | 723 |
727 |
Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant]
[1] | 725 |
726 |
magnetic substrate와 플라즈마 거동 [대면 재료의 전기적 특성와 플라즈마 쉬스의 변화]
[3] | 727 |
725 |
KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion]
[1] | 731 |
724 |
Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [Powder]
[1] | 740 |
723 |
Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰]
[1] | 745 |
722 |
챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP]
[1] | 747 |
721 |
Floride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [Sputter setup 및 구동 원리]
[1] | 748 |
720 |
VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [VPS]
[1] | 750 |
719 |
CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화]
[1] | 752 |
718 |
ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다
[1] | 756 |
717 |
AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제
| 761 |
716 |
안녕하세요 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [E x B drift]
[1] | 768 |
715 |
Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath]
[2] | 781 |
714 |
플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [Cleaning 후 재활용]
[1] | 782 |