Remote Plasma remote plasma 데미지 질문
2020.04.18 19:32
안녕하세요
반도체 공부하고 있는 학생입니다
반도체 관련 논문을 읽다 모르는 것이 있어 질문드립니다
remote plasma 경우 소스와 타겟 물질의 거리가 멀어 direct plasma 보다 플라즈마 데미지가 낮다고 하는데,
제가 알기로는 거리가 멀면 mean free path가 길어지고 플라즈마가 가속되어 에너지가 더 큰 것으로 알고 있습니다
그럼 충돌에너지가 커서 데미지가 더 커지는거 아닌가요..?
자세한 답변 부탁드립니다 감사합니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] | 75761 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19442 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56666 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68013 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90252 |
| 46 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10248 |
| » | remote plasma 데미지 질문 [1] | 14175 |
| 44 | 냉각수에 의한 Power Leak | 14426 |
| 43 | In-flight plasma process | 15479 |
| 42 | ICP TORCH의 냉각방법 | 15891 |
| 41 | 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] | 15960 |
| 40 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16419 |
| 39 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16547 |
| 38 | RF 변화에 영향이 있는건가요? | 17484 |
| 37 | 유전체 플라즈마 | 17489 |
| 36 | Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. | 17495 |
| 35 | capacitively/inductively coupled plasma | 17719 |
| 34 | DBD plasma | 18045 |
| 33 | surface wave plasma 에 대해서 [1] | 18449 |
| 32 | RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] | 18844 |
| 31 | 기중방전에서 궁금한것이 | 19134 |
| 30 | AC 플라즈마에서의 전압/전류 형상... | 19297 |
| 29 | 대기압 상태의 플라즈마 측정 | 19692 |
| 28 | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 19709 |
| 27 | 상압플라즈마에서 온도와의 관계를 알고 싶습니다. | 19710 |
본 게시판의 DC glow discharge와 Breakdown 조건에 대해서 살펴 보세요. 리모트 플라즈마는 소스(생성부)의 플라즈마를 처리챔버(처리부)로 확산시켜 사용하는 장치, 즉 소스가 멀리 떨어져 있는 경우이며, 확산시 이온화는 소스부에서 만들어진 전자 에너지에 관계하며, 처리부 플라즈마는 상대적으로 낮은 밀도, 낮은 온도의 플라즈마가 필요한 공정에 적용되는 장비 플라즈마의 특성을 가집니다.