Sputtering RF Sputtering Target Issue

2022.10.28 21:14

백지현 조회 수:675

안녕하세요 교수님. 이번에 새로이 RF 스퍼터를 사용하게 된 학생입니다. 

첨부한 이미지와 같이 현재 metal oxide 타겟을 이용하여 증착 후 타겟에 검은색 ring 모양의 contamination이 생기는 이슈가 있습니다.

서칭 결과 Magnetic feild로 인한 redeopsition으로 추청되는데 해당 현상이 맞는 것인 지와 현상을 해결하기 위한 방법(e.g. RF power 감소)을 여쭙고자 합니다.

아직 스퍼터를 사용한 지 얼마 되지 않아 많이 미숙하여 자체적인 판단이 어려워 도움을 요청드리는 바입니다.

날이 많이 추워졌는데 건강 조심하시고 좋은 하루 되시길 바랍니다!

 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [302] 78020
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20836
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57736
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69250
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93626
677 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 633
676 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 646
675 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 650
674 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 656
673 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 657
672 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 662
671 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 662
670 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 665
669 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 671
» RF Sputtering Target Issue [2] file 675
667 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] 676
666 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 680
665 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 687
664 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 687
663 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 688
662 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 688
661 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 702
660 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 706
659 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 710
658 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 711

Boards


XE Login