Plasma in general RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
2020.06.11 22:09
안녕하세요 반도체회사에서 CVD 공정에서 근무하고있는 사람입니다.
몇가지 질문이 있어 글을 올립니다.
1. 현재 CCP를 이용한 설비를 사용하고 있으며, RF/LF를 사용하고있는데 RF/LF의 역할에 대해 궁금합니다. RF는 전자에 거동에 영향을 주고 LF는 이온 거동에 영향을 준다고 간단하게만 알고있는데 이 내용이 맞는지요?
2. 현재 TEOS를 사용하여 CVD하고 있는 레시피 중 LF POWER가 낮은 레시피의 CVD 막질 두께의 UNIFOMITY가 LF POWER를 높게 쓰는 막질 두께의 UNIFORMITY보다 불량합니다. LF POWER가 낮은것이 막질 THK의 UNIFORMITY의 영향을 주는 것 일까요?
3. HF POWER의 세기도 CVD 막질 THK의 UNIFORMITY의 영향을 주는지 알고싶습니다.
마지막으로 항상 좋은 답변 좋은 내용 올려주셔서 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76743 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20213 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57169 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68706 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92300 |
133 | 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] | 3443 |
132 | Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] | 3448 |
131 | 방전에서의 재질 질문입니다. [1] | 3557 |
130 | Descum 관련 문의 사항. [1] | 3721 |
129 | 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] | 3753 |
128 | RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] | 3776 |
127 | ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] | 3957 |
126 | RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] | 4180 |
125 | Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] | 4810 |
124 | RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] | 5153 |
123 | RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] | 5678 |
122 | OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] | 5927 |
121 | O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] | 6183 |
120 | 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] | 6418 |
119 | O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] | 6438 |
118 | 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] | 6465 |
117 | 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] | 6540 |
116 | MFP에 대해서.. [1] | 7824 |
115 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8122 |
114 | 핵융합에 대하여 | 8564 |