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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67536
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55 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3335
54 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4130
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52 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5203
51 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5587
50 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5630
49 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6068
48 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6353
47 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 6689
46 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 6852
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44 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 7508
43 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8067
42 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 9104
41 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9565
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