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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[303]
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여
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[질문] 석영 parts로인한 특성 이상
[1] | 19866 |
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석영이 사용되는 이유?
[1] | 20107 |
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플라즈마 matching
| 20337 |
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CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1] | 20440 |
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전자파 누설에 관해서 질문드립니다.
[1] | 21157 |
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ICP 플라즈마 매칭 문의
[2] | 21252 |
21 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22307 |
20 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22607 |
19 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22673 |
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22972 |
17 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23371 |
16 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 24693 |
15 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24806 |
14 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24818 |
13 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24972 |
12 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25612 |
11 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 26340 |
10 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 26566 |
9 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 27286 |