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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68541
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91339
21 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22212
20 Peak RF Voltage의 의미 22541
19 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22567
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22920
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23308
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24504
15 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24714
14 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24754
13 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24790
12 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25568
11 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26077
10 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26436
9 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27193
8 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27552
7 esc란? 28034
6 Arcing [1] 28593
5 matching box에 관한 질문 [1] 29629
4 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35732
3 Ground에 대하여 39218
2 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41143

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