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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64186
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92 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1606
91 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 1790
90 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1816
89 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1878
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87 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2118
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84 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2441
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82 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2475
81 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 2637
80 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 2660
79 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2677
78 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 2875
77 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 2888
76 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3056
75 플라즈마 색 관찰 [1] 3065
74 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3077
73 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3510

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