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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
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54 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 687
53 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 711
52 Polymer Temp Etch [1] 758
51 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 766
50 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 875
49 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 940
48 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 1084
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46 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1163
45 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1181
44 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1187
43 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1205
42 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1211
41 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1227
40 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1282
39 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1448
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37 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1518
36 터보펌프 에러관련 [1] 1815
35 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1897
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