Langmuir Probe Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다.
2019.04.03 18:09
안녕하십니까
서울과학기술대학교에서 external DC voltage biasing을 이용한 여러 어플리케이션에 대해서 연구하고 있는 학생입니다.
먼저 플라즈마는 RF plasma이며 바이어싱을 걸어주기 위해 파워서플라이와 저항을 이용하여 회로를 구성하였고 바이어싱이 걸리는 기판은 일반적인 탐침이 아님 Planar한 Steel substrate입니다.
기판에 바이어싱이 걸리는지 확인하기 위해 Langmuir probe의 원리를 이용하여 기판에 도달하는 전류를 측정하려고 하는데 저희의 경우 Remote 플라즈마를 사용하고 있기 때문에 플라즈마로 기판이 직접 들어가는 것이 아니라 플라즈마 발생지점 수직선상으로 밑에 위치하게 됩니다.
이런 경우에도 Langmuir probe의 이상적인 I-V Characteristics가 나타나는지 궁금합니다.
댓글 3
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76731 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20201 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68701 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
| 789 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 21 |
| 788 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 36 |
| 787 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 53 |
| 786 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 59 |
| 785 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 63 |
| 784 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 69 |
| 783 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 80 |
| 782 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 81 |
| 781 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 86 |
| 780 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 101 |
| 779 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 113 |
| 778 | Microwave & RF Plasma [1] | 114 |
| 777 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다.
[1]  | 115 |
| 776 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 124 |
| 775 | skin depth에 대한 이해 [1] | 127 |
| 774 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 131 |
| 773 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 136 |
| 772 | ICP에서 전자의 가속 [1] | 138 |
| 771 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 147 |
| 770 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 151 |