안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20183
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
789 플라즈마 설비에 대한 질문 12
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 33
787 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 53
786 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 59
785 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 62
784 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 68
783 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 79
782 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 80
781 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 85
780 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 100
779 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 111
778 Microwave & RF Plasma [1] 112
777 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 113
776 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 124
775 skin depth에 대한 이해 [1] 124
774 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 127
773 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 136
772 ICP에서 전자의 가속 [1] 137
771 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
770 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 148

Boards


XE Login