ICP RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계
2021.11.08 17:20
안녕하십니까 교수님. 플라즈마를 이용하는 반도체 장비업체를 다니는 연구원입니다.
언제나 친절한 답변 감사 드립니다.
다름이 아니라 책을 통해서 Study를 하던 중 궁금한 것이 생겨서요.
Microwave plasma에 대해 공부하는데, Radio 와는 다르게 2.45GHz의 고주파 플라즈마를 형성하면
파장이 12.5cm로 훨씬 작아지게 되고 따라서 플라즈마의 크기도 이에 따라 작아진다고 하는데
왜 파장 길이 이상의 플라즈마 형성이 안되는 것인지 궁금합니다.
저는 지금 13.56MHz CCP방식으로 Chamber에 플라즈마를 형성하는데 이 주파수의 경우 파장의 길이보다 플라즈마가 형성되는 챔버의 크기가 훨씬 작게 되는데,
플라즈마가 형성되는 공간이 파장보다 작은 것은 괜찮은데 더 큰것은 왜 안되는지 그 이유가 궁금합니다.
감사합니다
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [270] | 76746 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20216 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57169 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68706 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92304 |
789 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 28 |
788 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 46 |
787 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 54 |
786 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 60 |
785 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 66 |
784 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 72 |
783 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 80 |
782 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 88 |
781 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 89 |
780 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 101 |
779 | Microwave & RF Plasma [1] | 116 |
778 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 118 |
777 | CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] | 119 |
776 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 124 |
775 | skin depth에 대한 이해 [1] | 132 |
774 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 137 |
773 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 139 |
772 | ICP에서 전자의 가속 [1] | 141 |
771 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 149 |
770 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 154 |