안녕하세요. 교수님. 

 

내플라즈마 코팅 회사에서 근무중인 최진영이라고 합니다. 

 

 

 

 

 

 

 

저희 회사에서는 내플라즈마 코팅을 반도체 공정 챔버의 부품인 라이너에 코팅하여 내식각 특성을 바탕으로 부품의 수명과 PM 주기를 단축하는 것을 목표로 하고있습니다. 

 

플라즈마 소스 해석에서 전력 균형 방정식과 같이 인가 전력이 플라즈마에 어느정도 분배되는지 중요하다고 알고있습니다. 그렇기에, 내플라즈마 코팅의 유전특성 변화가 챔버 내부 공정 분위기에 영향을 줄 수 있는지 여쭙고자 질문 드리게 되었습니다. 

 

코팅의 유전특성을 측정하는 과정에서, 특정 주파수(~30 MHz)에서 유전손실(dielectric loss)의 결과로, 유전율이 16에서 2 이하까지 떨어지는 현상을 관측하게 되었습니다. 30 MHz 이상의 고주파영역의 파워를 사용하는 식각공정에서 코팅의 유전손실로 인한 전기장 흡수가 플라즈마를 방전하는 전력의 손실로 이어져 공정의 경시변화가 발생할 수 있는지 여쭙고 싶습니다! 

 

 

감사합니다.

최진영 올림 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77200
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20461
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57359
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68898
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92944
806 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. new 3
805 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] 11
804 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] 22
803 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 36
802 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 36
801 Druyvesteyn Distribution 45
800 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 52
799 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 58
798 플라즈마 식각 커스핑 식각량 59
797 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 66
796 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 70
» 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 76
794 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 79
793 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 85
792 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 86
791 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 87
790 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 90
789 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 102
788 플라즈마 설비에 대한 질문 110
787 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 116

Boards


XE Login