안녕하세요. 교수님. 

내플라즈마 코팅 회사에서 근무중인 최진영이라고 합니다. 

저희 회사에서는 내플라즈마 코팅을 반도체 공정 챔버의 부품인 라이너에 코팅하여 내식각 특성을 바탕으로 부품의 수명과 PM 주기를 단축하는 것을 목표로 하고있습니다. 

플라즈마 소스 해석에서 전력 균형 방정식과 같이 인가 전력이 플라즈마에 어느정도 분배되는지 중요하다고 알고있습니다. 그렇기에, 내플라즈마 코팅의 유전특성 변화가 챔버 내부 공정 분위기에 영향을 줄 수 있는지 여쭙고자 질문 드리게 되었습니다. 

코팅의 유전특성을 측정하는 과정에서, 특정 주파수(~30 MHz)에서 유전손실(dielectric loss)의 결과로, 유전율이 16에서 2 이하까지 떨어지는 현상을 관측하게 되었습니다. 30 MHz 이상의 고주파영역의 파워를 사용하는 식각공정에서 코팅의 유전손실로 인한 전기장 흡수가 플라즈마를 방전하는 전력의 손실로 이어져 공정의 경시변화가 발생할 수 있는지 여쭙고 싶습니다! 

감사합니다.

최진영 올림