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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63740
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83488
496 RF matcher와 particle 관계 [2] 857
495 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 901
494 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 914
493 Group Delay 문의드립니다. [1] 915
492 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 918
491 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 921
490 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 934
489 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 936
488 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 938
487 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. [1] 945
486 플라즈마 코팅 [1] 946
485 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 954
484 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 959
483 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 961
482 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 968
481 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 972
480 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 991
479 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 996
478 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 997
477 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 998

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