안녕하세요 교수님. 항상 친절한 답변 감사드립니다.

 

회사를 다니면서 공부를 하다보니 제가 부족한 부분이 많아 자꾸 찾아뵙게 되네요.

 

현재 염근영 교수님의 '플라즈마 식각기술' 이라는 책을 공부하고 있는데요.

 

읽다보니 간단한것 같은데 이유를 모르겠는게 있어서 문의 드립니다.

 

Pressure가 공정에 미치는 영향 중에 압력이 낮아지면 rf voltage가 높아진다고 나와있는데 그 이유가 궁금합니다.

 

그리고 이 전압이라함은 플라즈마와 전극 사이의 전압을 말하는건가요?

 

제가 전기쪽으로는 지식이 많이 부족해서 헷갈립니다 ㅜㅜ 

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102774
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24678
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61397
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73463
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105804
653 플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응] [1] 1037
652 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [플라즈마 응용기술] [1] 1047
651 Hollow Cahthode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [장치 setting과 전극재료] [1] file 1054
650 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [Breakdown 이해] [1] 1057
649 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [충돌 거리 및 Deposition] [1] 1060
648 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 1064
647 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 1075
646 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 1076
645 새집 증후군 없애는 플러스미- 플라즈마에 대해서 [광운대 플라즈마바이오연구센터] [1] 1078
644 플라즈마 충격파 질문 [플라즈마 생성에 의한 충격파 현상] [1] 1078
643 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [플라즈마 표면 반응] [1] 1079
642 플라즈마 용어 질문드립니다. [Self bias] [1] 1080
641 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 1080
640 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS] [2] 1084
639 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 1085
638 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 1095
637 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model] [1] 1100
636 라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수] [1] 1109
635 Plasma Generator 관련해서요. [Matcher 성능 개선] [1] 1127
634 문의 드립니다. [방전 개시 조건 및 Bohm current density] [1] 1137

Boards


XE Login