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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68669
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92129
587 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 969
586 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 974
585 anode sheath 질문드립니다. [1] 977
584 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 984
583 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 991
582 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 991
581 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1003
580 고진공 만드는방법. [1] 1006
579 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1010
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577 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1020
576 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1028
575 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1029
574 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1035
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572 Plasma Arching [1] 1039
571 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1044
570 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1045
569 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1046
568 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1051

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