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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[126]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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450 |
Plasma 발생영역에 관한 질문
[2] | 1258 |
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449 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
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448 |
ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 1263 |
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447 |
CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다.
[3] | 1267 |
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446 |
N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 1269 |
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445 |
플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다.
[1] | 1280 |
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444 |
안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다!
[1] | 1283 |
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443 |
고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이
[1] | 1292 |
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442 |
압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문
[1] | 1292 |
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441 |
CVD 공정에서의 self bias
[1] | 1296 |
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440 |
수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다.
[1] | 1298 |
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439 |
플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다.
[1] | 1317 |
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438 |
RF generator 관련 문의드립니다
[3] | 1325 |
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437 |
O2 플라즈마 클리닝 관련 질문
[1] | 1333 |
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436 |
쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문
[1] | 1344 |
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435 |
RIE에서 O2역할이 궁금합니다
[4] | 1345 |
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434 |
RPG Cleaning에 관한 질문입니다.
[2] | 1382 |
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433 |
안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다.
[1] | 1390 |
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432 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 1407 |
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431 |
ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage
[1] | 1409 |
