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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65695
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406 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 1866
405 질문있습니다. [1] 1910
404 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 1912
403 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 1944
402 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 1966
401 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1987
400 플라즈마볼 제작시 [1] file 2009
399 Si Wafer Broken [2] 2027
398 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2040
397 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2042
396 Wafer particle 성분 분석 [1] 2049
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394 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2093
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392 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2130
391 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 2130
390 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2135
389 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2165
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387 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2206
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