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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
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479 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1568
478 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1609
477 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1626
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470 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1694
469 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1703
468 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1708
467 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1711
466 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1752
465 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1761
464 터보펌프 에러관련 [1] 1773
463 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1775
462 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1811
461 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1822
460 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1854

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