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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72686
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513 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘] [1] 1733
512 MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance] [3] 1736
511 Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과] [1] 1737
510 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 1737
509 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극] [1] 1748
508 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection] [1] 1760
507 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1777
506 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1784
505 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1793
504 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1796
503 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1796
502 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1800
501 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1800
500 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1802
499 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1815
498 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1827
497 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1838
496 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1868
495 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1872
494 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1874
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