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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘]
[1] | 1733 |
512 |
MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance]
[3] | 1736 |
511 |
Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과]
[1] | 1737 |
510 |
Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance]
[1] | 1737 |
509 |
부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극]
[1] | 1748 |
508 |
RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection]
[1] | 1760 |
507 |
Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas]
[1] | 1777 |
506 |
O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning]
[1] | 1784 |
505 |
Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source]
[1] | 1793 |
504 |
알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터]
[1] | 1796 |
503 |
Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity]
[1] | 1796 |
502 |
데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성]
[1] | 1800 |
501 |
반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment]
[1] | 1800 |
500 |
PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable]
[1] | 1802 |
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charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple]
[2] | 1815 |
498 |
Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적]
[1] | 1827 |
497 |
ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도]
[1] | 1838 |
496 |
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending]
[1] | 1868 |
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CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance]
[3] | 1872 |
494 |
플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료]
[1] | 1874 |