안녕하세요

Remote Plasma 를 활용한 depo chamber 의 설계를 준비하고 있습니다.

현재 막질 depo 후 후속 radical 을 이용하여 막질의 densification 을 하기 위해 post plasma treatment 를  하고자 하는데요

현재 N2, H2, NH3 를 radical source 로 고려하고 있습니다.

N2 의 remote plasma 는 가능한 걸로 알고 있는데, H2 의 경우 H* (radical ion) 는 생성 후 먼거리 도달의 한계가 있거나, 또는

쉽게 H2 로 변한다는 것으로 알고 있어서 radical souce 로 활용이 가능한지 궁금합니다.

NH3 도 가능한지 궁금합니다.

Remote plasma 의 설비 설계시 ion 들의 직진성이 고려되도록 설계가 되어야 하는지요.. path 가 복잡할 시 plasma 효과를 볼 수 없게 되는지요..

조언 부탁드립니다.

감사합니다.