Deposition 플라즈마 색 관찰

2018.05.08 14:21

우인범 조회 수:4297

안녕하세요, 반도체분야로 취업하려는 취업준비생입니다.


얼마전에 공정실습을 다녀왔었는데요. SiO2 를 PECVD로 증착하는 과정에서 플라즈마 관찰을 했었습니다. process gas로 N2O를 SiH4보다 많이 투입했음에도 불구하고 SiH4의 플라즈마 색이 관찰된 것에 대해서 이유를 분석해보라는 문제를 주셨습니다. 


당시에는 두 가스의 플라즈마 색이 갖는 파장이 합성됐을 때 푸리에와 관련해서 나온 현상이라고 이해했었는데, 다시생각해보니 정확한 정리가 잘 되지 않았습니다.


이 현상에 대해서 피드백을 받을 수 있을까요??

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76866
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20268
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57197
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68750
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92690
477 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1622
476 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1624
475 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1637
474 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1670
473 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1670
472 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1673
471 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1676
470 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1691
469 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1701
468 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1704
467 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1707
466 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1750
465 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1760
464 터보펌프 에러관련 [1] 1769
463 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1771
462 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1808
461 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1820
460 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1843
459 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1858
458 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1864
쓰기
태그

Boards

XE Login