ICP Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance]

2018.12.21 07:56

정용진 조회 수:1958

안녕하세요, dusty 플라즈마를 활용해서 나노소재를 만드는 연구를 하는 한 학생입니다.

 

플라즈마 electron density 를 증가하고자 CCP 에서 ICP 로 바꿔서 실험을 진행하고 있는데요,

 

Ar gas 만 흘럿을때는 매우 아름다운 ICP 효과를 얻을 수 있는데,

O2 gas 를 넣는 순간 ICP 효과가 사라집니다.

 

튜브 사이즈는 직경 2인치이고, power 는 200 W 정도 인가하였는데 

매칭박스의 매칭이 잘 되지는 않습니다. 

 

주로 CCP 만 사용하다가 ICP 를 사용하게 되어 매칭박스에 관해 지식이 짧은데,

혹시 ICP 를 사용할때는 이 모드에 맞게 매칭박스를 바꾸어야 하는지요?

 

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 101885
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24461
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61122
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73155
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105319
513 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘] [1] 1753
512 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1753
511 Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과] [1] 1758
510 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 1759
509 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극] [1] 1765
508 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection] [1] 1782
507 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1802
506 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1813
505 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1813
504 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1816
503 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1827
502 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1829
501 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1830
500 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1836
499 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1838
498 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1858
497 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1864
496 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1882
495 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1892
494 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1905
쓰기
태그

Boards

XE Login