교수님 안녕하세요. 디스플레이 장비사에서 근무중인 회사원입니다.

 

좋은 내용 정말 감사합니다. 많이 배우고 있습니다.

 

PECVD의 챔버와 standing wave effect에 관한 질문입니다. 

 

챔버의 크기가 클수록 standing wave effect에 의해 챔버 내의 플라즈마가 불균일 하게 형성되어 불균일한 필름이 증착되는 것으로 알고있습니다.

 

'용량결합형 전극에서 가이드링에 의한 전기장 제어' 논문(http://doi.org/10.5370/KIEE.2019.68.11.1465)의 2.1 전기장 불균일도 원인 내용에서 'Wave는 전도체 표면을 따라 전극 아래 중앙부로 이동한다. 이 현상은 축대칭으로 인해 전극 중앙 하부에서 축방향 전기정은 radial 방향으로 미분 값이 0이 되어야 한다. 따라서 전극 아래 중앙부에서는 시간에 따른 전기장이 가장 크거나 가장 작다.'
라고 설명이 나와있습니다. 

 

제가 드리고 싶은 질문은 wave가 중앙부에서 가장 강한지 궁금합니다. 또한 중심부에서 가장 큰 전기장이 형성 되더라도 전기장 에너지가 플라즈마 내부에서 확산되기 때문에 챔버 전체적으로 동일한 플라즈마 밀도를 가져야 하는것 아닌지가 궁금합니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [298] 77498
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20584
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57517
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69033
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93150
494 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1496
493 알고싶습니다 [1] 1503
492 charge effect에 대해 [2] 1538
491 ICP lower power 와 RF bias [1] 1545
490 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1550
489 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1552
488 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1559
487 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1566
486 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1576
485 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1584
484 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1584
483 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1606
482 plasma 형성 관계 [1] 1626
481 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1631
480 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1640
479 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1641
478 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1649
477 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1675
476 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1698
475 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1700

Boards


XE Login