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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86031
346 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3178
345 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3222
344 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 3246
343 RPSC 관련 질문입니다. [2] 3272
342 플라즈마 색 관찰 [1] 3384
341 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3454
340 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3602
339 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3657
338 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3705
337 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3955
336 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3957
335 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 4112
334 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4208
333 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 4240
332 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 4339
331 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4460
330 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 4582
329 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4614
328 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 4679
327 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4866
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