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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
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366 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3456
365 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3462
364 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3481
363 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3494
362 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3545
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359 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3601
358 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3614
357 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3623
356 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3693
355 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3701
354 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3745
353 Descum 관련 문의 사항. [1] 3782
352 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3857
351 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3865
350 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3865
349 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3979
348 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3988
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