안녕하세요. 저는 광운대학교 전기공학과 박재우입니다. 천체물리학에 관심이 있어

자연스럽게 플라스마를 접하게 되었습니다. 태양을 비롯한 천체와 은하의 격렬한 활동에

의해 우주에는 가시광선뿐만 아니라 X선과 감마선이 흔하게 있다는 것을 알고 있습니다.

 

그러다 구 대칭으로 편광 된 빔들이 더해져 중심부에 큰 세기가 되는 것을 알고
핵융합뿐만 아니라 전자기파도 플라스마 형성에 영향을 줄 수 있다는 생각을
가지게 되었습니다. 가스의 절연내력만 넘겨도 절연파괴가 일어나 아크가 발생할 
것이기 때문입니다.

 

플라스마의 물성이 난해하고 분포가 균일하지 않으면 더 어려워서 '금속 전도성이 
한계일 것이다.'라는 전제를 가졌습니다. 감쇠상수가 0이 될 수 있는 파장대를 찾아
보니 감마선이었습니다. 

 

하지만 빛은 입자성과 파동성을 동시에 가지고 있고, 산란 혹은 흡수 등이 일어날 수도 있고 ...
물어볼 사람도 없고 실제로 플라스마에 X-ray이나 감마선을 조사할 수도 없어 답답했습니다.

그러다 서울대 플라스마 연구소를 알게 되었고, 이렇게 질문을 하게 됐습니다. 
첨부파일은 제가 어설프게나마 생각한 것을 정리한 자료입니다.

 

1. 구 대칭으로 편광 된 X-ray을 조사하였을 때 플라스마는 어떻게 될까요?
2. 자연계에서 플라스마의 도전율의 한계가 어디로 생각하는게 좋을까요?

 

제 궁금증을 해결할 수 있으면 정말 좋겠습니다. 그럼 글을 마치겠습니다. 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76738
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92286
89 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 22122
88 플라즈마의 발생과 ICP 22137
87 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22239
86 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22541
85 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22579
84 Peak RF Voltage의 의미 22605
83 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22620
82 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22696
81 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22765
80 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22852
79 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22943
78 CCP/ICP , E/H mode 22980
77 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23061
76 No. of antenna coil turns for ICP 23096
75 고온플라즈마와 저온플라즈마 23126
74 DC glow discharge 23246
73 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23262
72 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23333
71 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23382
70 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23442

Boards


XE Login